Los objetivos a base de tungsteno de alta densidad son un material ampliamente utilizado en la industria de los semiconductores con las siguientes propiedades:

 

El objetivo de tungsteno de alta pureza es un sustrato importante para que la película delgada de óxido de tungsteno logre su transición funcional en dispositivos semiconductores. Debido al alto punto de fusión del tungsteno, los objetivos de tungsteno se preparan principalmente mediante métodos de pulvimetalurgia. El método de preparación incluye los pasos de mezclar uniformemente polvo de tungsteno con una pureza superior al 99,999 % y un tamaño de partícula de 3,2-4.2 μm, colocarlo en un horno de tratamiento térmico al vacío para su desgasificación previa y luego introducir hidrógeno y continuar calentando para desgasificar; El polvo de tungsteno alimentado con gas completa el paso de sinterización principal mediante prensado en caliente al vacío; la placa primaria de tungsteno sinterizado completa el paso de sinterización secundaria mediante una prensa isostática caliente; toda la superficie de la placa secundaria de tungsteno sinterizado se procesa mecánicamente. Después del tratamiento de molienda, se obtiene un material objetivo de tungsteno de alta pureza para semiconductores con una pureza del 99,999% y superior y una densidad del 99% y superior. Las ventajas son alta pureza, alta densidad y baja resistencia.

 

 

 

Material	Tungsteno puro
Especificaciones	Procesar todo tipo de objetivos de tungsteno según la solicitud de los clientes.
Campos de aplicación	Campo de microelectrones Industria de pantallas planas Campo de tecnología de almacenamiento Industria de recubrimiento al vacío Industria del vidrio

 

Proceso de producción de objetivos de base de tungsteno de alta densidad:

 

Generalmente se prepara mediante el método de pulvimetalurgia. Primero, coloque el polvo de tungsteno en un horno de tratamiento térmico al vacío para la desgasificación previa, luego introduzca hidrógeno y continúe calentando para la desgasificación; en segundo lugar, completar la sinterización del polvo de tungsteno desgasificado mediante prensado en caliente al vacío; tercero, sinterizarlo una vez. El producto sinterizado se sinteriza secundariamente mediante una prensa isostática caliente; cuarto, toda la superficie del producto sinterizado secundario se muele mediante procesamiento mecánico para obtener el producto. Nota: 1) La pureza del polvo de tungsteno debe ser superior al 99,999% y el tamaño de partícula debe estar entre 3,2-4.2μm.

 

 

 

 

 

 

 

    

 

 

 

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